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Aufgrund der hohen Reinheit des Materials und seiner hervorragenden Eigenschaften bei hohen Temperaturen sind Rohre aus Quarzglas für den Einsatz in Ofensystemen bei der Bearbeitung von Siliziumkristallen in der Halbleiterindustrie besonders gut geeignet. Quarzglas ist beständig gegenüber den hohen Temperaturgefällen und Erwärmungsgeschwindigkeiten dieser Prozesse. Seine hohe Reinheit gewährleistet eine verunreinigungsarme Umgebung, die für beste Wafer-Ergebnisse unerlässlich ist.
Die hohen Anforderungen in modernen Halbleiterprozessen verlangen ständige Verbesserungen der Materialien für die angewendeten Verfahren. Diese Entwicklungen hatten starke Auswirkungen auf die Hersteller von Quarzglas. Nun sind Rohre mit größeren Durchmessern und deutlich verbesserte Reinheitsgrade gefragt. Momentive Performance Materials kann beide Forderungen erfüllen.
Die Rohre aus Quarzglas sind in den verschiedensten Größen mit Durchmessern von bis zu 550 mm lieferbar. Durchmesser und Wandstärke unterliegen strengen Kontrollen. Auf Anfrage sind auch Rohre mit großen Wandstärkenie Erweiterung und Modernisierung der Produktionsstätten und die Einführung einer verbesserten Qualitätskontrolle weisen Quarzglas-Rohre von Momentive Performance Materials jetzt Verunreinigungen von weniger als 25 ppm auf. Der Alkaligehalt liegt sogar unter 1 ppm.
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GE 214 LD
Der Rohrtyp 214 LD entspricht dem Industriestandard bei Rohren mit großem Durchmesser. Diese kostengünstigen Rohre bieten die Reinheits- und Durchbiegungsgrade, eine hohe Hitzeresistenz und andere Eigenschaften, die für Diffusions- und CVD-Verfahren (mit Ausnahme hoch spezialisierter Verfahren) notwendig sind.
Das Momentive-Ofenglas GE 214 LDH verfügt über verbesserte Eigenschaften bei hohen Temperaturen und kann so in der Verfahrenstechnik bei höheren Temperaturen und größeren Wafer-Beladungen effektiv eingesetzt werden.
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Beschreibung
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Typische Anwendungen
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Klares Quarzglas mit denselben hervorragenden Eigenschaften wie GE 214; dient jedoch für Anwendungen mit großem Durchmesser.
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In der Halbleiterindustrie für Diffusions-, Oxidations- und LPCVD-Verfahren verwendet.
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GE 224 LD - GE 224LD – Quarzglasrohre mit geringem Alkaligehalt
Mit der Entwicklung immer besserer Geräte für immer größere Beladungen ist die Verunreinigung der Öfen in der Halbleiterindustrie ein zunehmend wichtiger Faktor, der sich auf die Waferausbeute auswirkt. Eine potentielle Verunreinigungsquelle stellt Natrium dar, welches ein natürlicher Bestandteil des für die Herstellung von Quarzglas verwendeten Quarzsandes ist. Wird das Natrium nicht entfernt, kann dessen äußerst bewegliches Ion die elektrischen Eigenschaften von MOS-Halbleitern und bipolaren Bauelementen grundlegend destabilisieren.
Für derartig hochempfindliche Anwendungen hat Momentive Performance Materials Quarzglasrohre mit geringem Alkaligehalt vom GE 224 entwickelt. Sie werden in einem speziellen Verfahren gefertigt, bei dem bis zu 90 % der natürlich enthaltenen Alkalien entfernt werden. Am Ende dieses Verfahrens beträgt der typische Natriumgehalt nur noch 0,1 ppm (normal: 0,7 ppm). Außerdem enthält das Quarzglas wesentlich weniger Kalium und so gut wie kein Lithium.
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Beschreibung
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Typische Anwendungen
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Ähnlich wie GE 214, mit denselben außergewöhnlich hohen Viskositäts- und optischen Eigenschaften. Durch den Einsatz spezieller Verfahren wird ein Alkaligehalt im ppb-Bereich erzielt.
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Wird in empfindlichen Halbleiter-Diffusionssystemen verwendet, wo die Chipausbeute bereits durch kleinste Spuren von Akalien verringert werden kann.
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GE 244 LD - Quarzglasrohre mit geringem Alkali- und Aluminiumgehalt
Diese Qualität wurde speziell für Anwender entwickelt, die Quarzglas mit einem geringen Aluminiumgehalt benötigen. Der typische Aluminiumgehalt von LD 244 liegt bei 8 ppm.
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GE 214 Glasglocke
Für die Verfahrenskammern bestimmter Halbleiter-Verfahrensgeräte wird glockenförmiges Quarzglas benötigt. Momentive Performance Materials bietet ausgewählte Standardglockenformen sowie Rohglas für Hersteller von Glasglocken an. Durch Anbringen eines oberen und unteren Flansches kann aus diesem Glockenkörper ein hochwertiges Fertigprodukt hergestellt werden.
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514/544 Opakringe
Bei der Herstellung von Hochtemperatur-Verfahrenskammern wird dem Rohr für die Kammer häufig ein Querschnitt aus Opakquarz hinzugefügt. Der für den Querschnitt verwendete Opakquarzring absorbiert die Infrarotenergie, die an der Rohrwand entlang fließt (Lichtleitung). Zum Schutz der zum Versiegeln der Kammer verwendeten O-Ring-Dichtung muss diese Infrarotenergie absorbiert werden.
Momentive stellt Opakglas-Ringe in regulärer 514-Reinheit (entspricht 214-Rohren) und 544-Reinheit (244-Rohre) her. Diese Ringe stellen eine kostengünstige Alternative zu anderen Opakringen dar. Sie sind in verschiedenen Größen für alle Standardverfahrenskammern erhältlich.
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Geringer Hydroxylgehalt (OH)-
Die Resistenz der Quarzglasrohre von Momentive Performance Materials gegenüber dem hohen Temperaturanstieg und der chemischen Umgebung bei der Wafer-Verarbeitung ist unter anderem im (OH)- Gehalt des Materials begründet.
Ein geringer (OH)- Gehalt minimiert die Durchbiegung bei Diffusionstemperaturen und verzögert den Entglasungsprozess.
Aufgrund des geringen Hydroxylgehalts benötigen die Quartzglasrohre von Momentive Performance Materials keine spezielle Beschichtung, die bei hohen Temperaturen Verunreinigungen verursachen könnte.
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